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大面积位置灵敏闪烁体中子探测器(SSND)

        1.研究背景

        对于探测热中子,常用3He、10B、6Li这三种材料。其中3He的反应截面是最大的,并且具有探测效率高、n/γ抑制比好等优点,但由于其价格昂贵,因此 研发新型中子探测器迫在眉睫。基于新型闪烁材料和光电技术的闪烁体型中子探测器,可以实现对热中子的高效率、高分辨率和实时探测,日益受到重视。 在散裂中子源的三台谱仪中,高通量粉末衍射仪主探测器即拟采用闪烁体型中子探测器来代替3He管中子探测器。针对其大面积以及位置灵敏等要求,探测器组开发了大面积位置灵敏闪烁体中子探测器。

        2.研究内容

        2.1 探测器工作原理:

        探测器采用了ZnS闪烁屏掺6LiF为闪烁屏,且在表面二维方向上密布波移光纤的用于收集闪烁体所发出的荧光,来对中子进行间接探测。热中子打到闪烁屏上,与闪烁屏中的6Li原子核发生核反应,其反应方程式为:

                 n + 6Li → 3H(2.72MeV) + α(2.05MeV)

        次级粒子带有电荷,在ZnS闪烁屏中电离激发出荧光,荧光被波移光纤接收并传输至光电倍增管进行光电转换及放大,最后被后端电子学收集并记录。中子射到闪烁屏某一位置时,距离该位置越近的波移光纤越容易收集电离激发出的荧光,因此收集的信号越大,根据这一原理便可实现对中子入射位置的探测。其工作原理图如右图所示:

 

         DT_vs_TT_web

        2.2 探测器结构设计:

        根据以上原理,按照中国散裂中子源的设计要求,设计开发了下图所示的SSND探测器(面积:50cm×25cm)。为了提高探测效率(要求:>40%),探测器采用了双层闪烁屏,中间夹二维光纤阵列的方案,相邻两根芯距1.5mm。


        

机械设计图和光纤工装支架

        对于SSND探测器的开发,最关键的难点在于探测器的设计及光纤排布工艺。探测器要求光纤阵列面与闪烁屏平行,但由于光纤自身的韧性,很难使光纤转弯处保持平整。为了解决这个问题,我们组机械工程师专门设计了“光纤工装平台”,光纤平面通过弹簧秤拉平(弹簧秤示数调节到一致),然后在转弯处用摩擦力大且质软的的材料夹紧,防止光纤回缩。目前,第一台500mm×250mm探测器样机的光纤工装已排布完成,正在进行后端光电倍增管的固定、探测器屏蔽等工作。(请参见工作日志Elog

        为了模拟展示探测器对入射中子的二维响应,使用激光模拟中子在闪烁屏上产生的光斑,观察光纤对光的吸收传播等过程,具体展示过程参见如下视频:

                                                     

        2.3 电子学读出:

        对于信号的读出,拟采用多阳极光电倍增管(H8500C)并电阻网络读出方法。目前读出电路正在设计开发中,具体实验进展参见散裂工作日志(Elog)。


        

多阳极光电倍增管,电阻网络读出电路图

        2.4 实验测试:

DT_vs_TT_web                   闪烁体的测试:实验测试了美国Saint-Gobain公司的BC704、BC704#和美国Eljen Technology公司的EJ426三种6LiF/ZnS闪烁屏,下表给出了三种闪烁屏的参数,其中BC704是目前市面上最常用的中子探测闪烁体,BC704#为定制产品,而EJ426亦是EJ公司刚刚推出的新产品。由于ZnS闪烁屏的光衰减长度在mm量级,三个样品的厚度均小于1mm。衬底材料均采用对热中子散射截面最小的铝,同时衬底与闪烁体粉末接触的一面经过仔细抛光以提高反射率,增大出射光产额。

        实验使用的光电倍增管是XP2020,三种闪烁屏测得的探测效率结果如下图所示。为了达到要求的探测效率,探测器采用了双层闪烁屏,中间夹光纤阵列的结构,此时探测效率为η=η0+(1-η0)·η0,其中η0为第一层闪烁屏的探测效率。

 

样品 6LiF:ZnS质量比 厚度(μm) 尺寸 衬底材料
BC704 1:4 400 250*250mm2 1mm Al
BC704# 1:2 400 250*250mm2 1mm Al
EJ426 1:3 400 250*250mm2 1mm Al

三种闪烁屏的参数


                                       

闪烁屏测试实验装置

参数 BC-704 BC-704# EJ-426
计算率((n/s*cm2)) 0.53 0.74 0.69
探测效率理论值 23.2 30.1 32.4
探测效率实验值 26.4 36.0

三种闪烁屏的探测效率

        在对XP2020单光子标定之后,还可以计算出三种闪烁屏的光产额(闪烁屏表面出射的光子数),测得的三种闪烁屏电荷的分布(2.5pC/channel)。经计算,三种闪烁屏的光产额分别为BCF704:7.4×103,BCF704#:8.1×103,EJ426:1.0×104


        

三种闪烁屏出射光子的测试结果

        通过以上测试发现,和美国Eljen Technology公司的EJ426探测效率和光产额都是三种闪烁屏中最高的。具体的其他性能目前还在测试中,请参见散裂工作日志(Elog)。

        波移光纤的测试:SSND上的波移光纤采用的是美国圣戈班公司生产的BCF-91A,其主要功能是收集闪烁屏中产生的蓝光,将其转换成绿光并传播至光电倍增管。在这过程中存在很多光子损失的因素,最终达到光电倍增管光电面的光子数由以下公式给出(包括前面闪烁屏的因素)。对于光纤的具体性能测试正在进行中(参见Elog)。

                                                              N = Yeff × Ω × Cshift × Cre-emission × Ctrap × Ctransmission × Cbend

        其中Yeff为闪烁体的有效光产额,Ω为波移光纤覆盖的空间立体角,Cshift为波移光纤的光吸收效率,Cre-emission是波移光纤吸收绿光发射蓝光的几率,Ctrap为波移光纤发出的蓝光被波移光纤捕获效率,Ctransmission为波移光纤的光传输效率,Cbend为光纤转弯处的光传输效率。Yeff、Cshift、Cre-emission和Ctrap是闪烁体及光纤的固有参数,而Ω、Ctransmission和Cbend直接与光纤阵列的排布相关。通过M.C.模拟计算可以得到较合理的探测器光路设计参数,如光纤排布间距、光纤与闪烁屏间距、光纤转弯半径等。探测器实体设计中参考该模拟结果,结合实际测试结果,得到探测器的最佳设计参数。模拟结果参见Elog

        另外,由于探测器设计中,光纤需要转弯,因此对光纤传输的损失率进行了测试。如下图所示:


                                                                 

光纤转弯损失率随转弯直径的变化

        从实验结果可以看出,在转弯直径为2cm的地方,光纤传输损失率有突变,直径小于2cm时,损失率急剧增加。最终探测器光纤的弯转直径选为2cm。

        光电倍增管的测试:目前,探测器样机性能的测试都是通过光电倍增管XP-2020来进行测试的,结果显示热中子经探测器之后,到达光电倍增管端面的光子数可达100个左右,且单个热中子的信号主要集中在2us的时间范围内,根据此结果,H8500的后端电子学读出系统正在设计加工,H8500的测试也已经开展,具体进展请参见Elog

 
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